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在芯片封装前的制造流程中,清洗焊接残留物是确保产品性能和可靠性的关键步骤。以下从多个维度详细分析其必要性:
电化学迁移风险
残留的离子型物质(如卤素、有机酸)在通电和潮湿环境下会电离,引发金属枝晶生长,导致相邻导体间短路。例如,含Cl⁻的残留物在湿热条件下可能腐蚀铜引线,形成导电通路。
漏电流增加
非离子残留物(如松香)虽绝缘性较高,但吸潮后可能形成微导电路径,尤其在高压或高频应用中,漏电流会显著上升,影响信号完整性。
腐蚀与化学降解
酸性助焊剂残留(如柠檬酸)会与金属焊盘发生缓慢反应。例如,在温度循环(-40°C~125°C)中,残留物加速铝焊盘的氧化,导致接触电阻上升甚至断路。
分层与开裂
残留物在封装材料(如环氧模塑料)与基板界面处形成弱结合区,热膨胀系数(CTE)失配会引发分层,尤其在回流焊时,界面应力可能导致封装开裂。
热阻控制
残留物(如松香聚合物)的热导率通常低于金属或陶瓷基板(约0.1-0.3 W/m·K vs. 200-400 W/m·K)。例如,在功率器件中,残留物覆盖焊点会使结温上升10-15%,加速器件老化。
散热路径完整性
在倒装芯片(Flip-Chip)封装中,底部填充胶与基板间的残留物会阻碍热量向散热片的传导,导致局部热点形成。
表面涂覆附着力
残留物会使三防漆(如聚对二甲苯)的附着力下降50%以上,在机械振动测试中易发生涂层剥落,丧失防潮防尘功能。
引线键合质量
金线键合区域若存在氟化物残留,会导致键合强度降低30%-40%,在拉力测试中易发生焊点脱离。
IPC/JEDEC标准
IPC-A-610规定离子污染水平需低于1.56 μg/cm²(NaCl当量),否则在THB(高温高湿偏压)测试中失效率可能超标。如汽车电子AEC-Q100要求必须通过85°C/85%RH 1000小时测试。
航天与军工标准
MIL-STD-883要求清洗后表面绝缘电阻(SIR)需大于1×10⁹ Ω,残留物过多会导致SIR下降2-3个数量级。
有机硅胶失效
某些助焊剂中的胺类物质会与有机硅灌封胶发生交联反应,导致胶体提前固化,产生内应力裂纹。
银迁移抑制
在含银填料的导电胶附近,残留的硫化物会与银反应生成Ag₂S,造成导电通道断裂。
免洗助焊剂应用
通过配方优化(如低固含量<2%、无卤素设计),残留物在特定条件(如消费电子常温环境)下可保持稳定。但需验证是否符合MSL(潮湿敏感等级)要求。
成本与环保考量
清洗工艺(如超临界CO₂清洗)会增加5%-10%生产成本,需在可靠性与经济性间平衡,但对高端产品而言,清洗仍是必要投入。
芯片封装前的清洗工艺是质量控制的基石,尤其在汽车电子、航空航天及5G等高可靠性领域,残留物清除直接决定产品寿命和市场竞争力。企业需根据具体应用场景、材料体系及标准要求,选择适宜的清洗方案(如水基清洗、等离子清洗等),并结合失效分析(如SEM-EDS表征)持续优化工艺窗口。
芯片清洗剂选择:
水基清洗的工艺和设备配置选择对清洗精密器件尤其重要,一旦选定,就会作为一个长期的使用和运行方式。水基清洗剂必须满足清洗、漂洗、干燥的全工艺流程。
污染物有多种,可归纳为离子型和非离子型两大类。离子型污染物接触到环境中的湿气,通电后发生电化学迁移,形成树枝状结构体,造成低电阻通路,破坏了电路板功能。非离子型污染物可穿透PC B 的绝缘层,在PCB板表层下生长枝晶。除了离子型和非离子型污染物,还有粒状污染物,例如焊料球、焊料槽内的浮点、灰尘、尘埃等,这些污染物会导致焊点质量降低、焊接时焊点拉尖、产生气孔、短路等等多种不良现象。
这么多污染物,到底哪些才是最备受关注的呢?助焊剂或锡膏普遍应用于回流焊和波峰焊工艺中,它们主要由溶剂、润湿剂、树脂、缓蚀剂和活化剂等多种成分,焊后必然存在热改性生成物,这些物质在所有污染物中的占据主导,从产品失效情况来而言,焊后残余物是影响产品质量最主要的影响因素,离子型残留物易引起电迁移使绝缘电阻下降,松香树脂残留物易吸附灰尘或杂质引发接触电阻增大,严重者导致开路失效,因此焊后必须进行严格的清洗,才能保障电路板的质量。
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